Chemical Vapor Deposition of Tungsten and Tungsten Silicides for VLSI/ ULSI Applications (Materials Science and Process Technology Series) - Hardcover
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Book by John E J Schmitz
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Críticas:
"After reading this book, an engineer should have all the necessary background." - European Semiconductor
Reseña del editor:
This monograph condenses the relevant and pertinent literature on blanket and selective CVD of tungsten (W) into a single manageable volume. The book supplies the reader with the necessary background to bring up, fine tune, and successfully maintain a CVD-W process in a production set-up. Materials deposition chemistry, equipment, process technology, developments, and applications are described.
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- VerlagWilliam Andrew
- Erscheinungsdatum1992
- ISBN 10 0815512880
- ISBN 13 9780815512882
- EinbandTapa dura
- Anzahl der Seiten254
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CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF T
Verlag:
WILLIAM ANDREW INC
(1993)
ISBN 10: 0815512880
ISBN 13: 9780815512882
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Hardcover
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Buchbeschreibung Gebunden. Zustand: New. Supplies the reader with the background to bring up, fine tune, and successfully maintain a CVD-W process in a production set-up. This book describes materials deposition chemistry, equipment, process technology, developments, and applications.Inhal. Artikel-Nr. 595054709
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