Handbook of Chemical Vapor Deposition, 2nd Edition: Principles, Technology and Applications (Materials Science and Process Technology) - Hardcover

9780815514329: Handbook of Chemical Vapor Deposition, 2nd Edition: Principles, Technology and Applications (Materials Science and Process Technology)
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Book by Pierson Hugh O

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Críticas:
".presents an objective and systematic assessment." - High Tech Ceramics News
Reseña del editor:
Turn to this new second edition for an understanding of the latest advances in the chemical vapor deposition (CVD) process. CVD technology has recently grown at a rapid rate, and the number and scope of its applications and their impact on the market have increased considerably. The market is now estimated to be at least double that of a mere seven years ago when the first edition of this book was published. The second edition is an update with a considerably expanded and revised scope. Plasma CVD and metallo-organic CVD are two major factors in this rapid growth. Readers will find the latest data on both processes in this volume. Likewise, the book explains the growing importance of CVD in production of semiconductor and related applications.

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  • VerlagWilliam Andrew
  • Erscheinungsdatum2000
  • ISBN 10 0815514328
  • ISBN 13 9780815514329
  • EinbandTapa dura
  • Auflage2
  • Anzahl der Seiten508

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Pierson, Hugh O.
Verlag: WILLIAM ANDREW INC (2000)
ISBN 10: 0815514328 ISBN 13: 9780815514329
Neu Hardcover Anzahl: > 20
Anbieter:
moluna
(Greven, Deutschland)
Bewertung

Buchbeschreibung Gebunden. Zustand: New. Offers an understanding of the advances in the Chemical Vapor Deposition (CVD) process. This book features data on both Plasma CVD and metallo-organic CVD processes. It also explains growing importance of CVD in production of semiconductor and related appli. Artikel-Nr. 595054820

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